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高速离心式功能材料成膜装置
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2003/12/05 | |
| 薄膜类功能材料（如金刚石薄膜，陶瓷薄膜，半导体薄膜等）的成膜装置一般是真空（或带有一定的保护气体）腔内设有静止的基板（或可缓慢转动并加热到一定温度），通过化学气相沉积法（CVD）,物理蒸镀法（PVD）,溅射法等方法将被镀物质沉淀在基板上形成薄膜。本实用新型是将基板改制成圆桶状，并高速转动，内壁作为成膜基板面。由于速度和离心力的作用，改进了原方法的成膜条件，可以大大地提高成膜速度和薄膜质量。 | ||
| 专利种类: | 实用新型 | |
| 可行性分析: | 已由相应机构作出分析报告 | |
| 法律状况: | 已授权 | |
| 专利号: | 02245793.3 | |
| 技术报价: | 100万元 | |
| 转让方式: | 面议 | |
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